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SCIL Nanoimprint Solutions 高精度奈米壓印設備

產品型號：FabSCIL

產品分類：化合物半導體材料/設備

廠商名稱：辛耘企業股份有限公司

攤位號碼：尚未更新

產品特色

1) 使用特殊光阻液材質搭配毛細現象壓印的獨家技術, 壓印無須額外加壓, 結構不被破壞, 子模可承受最高700次壓印, 與傳統技術搭配polymer(約25次壓印)相比可大幅省下製作成本
2) SCIL獨家設計的光阻液固化快, 並且無須額外施加紫外光。高蝕刻選擇性(selectivity)亦可取代傳統硬式遮罩層(hard mask - SiO2, Si3N4, etc), 替產線省下步驟與成本
3) 直接面對面貼平壓印, 相較滾動式有更高的對位精準度

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