RAS設備

用於3D基板搭載自公轉機構的濺射設備
RAS設備搭載了敝司獨自研發的自公轉機構
能夠在3D基板上實現良好的均勻性
*在3D基板上均勻成膜
提案符合基板形狀的自公轉機構
*抑制Particle的產生
搭載敝司獨自發的非接觸式自轉機構
*便於3D和平板產品之間的切換
通過更換滾筒, 可切換各種基板。