離子束蝕刻 /離子束修整設備

產品型號：Mill-200 / Trim-200

攤位號碼：L510

產品特色

-離子束蝕刻：
複雜表面結構的精密加工
離子束蝕刻 (IBE)，也稱為離子束銑削 (IBM)，是一種高精度的表面處理方法。一束寬的帶正電的離子（通常是氬離子）被加速到基底上。由此，離子將其動能傳遞給表面原子，導致它們被彈出，從而去除材料。為了達到均勻、準確的蝕刻結果，在蝕刻過程中基片會旋轉，同時離子束的直徑大於基片。

離子束蝕刻的優點：
高精度－透過在定義的入射角和可調節的離子能量下進行蝕刻，甚至可以高精度地創建複雜的結構。
基材溫度低，可最大限度減少因熱引起的材料變形或損壞。
多功能性高：離子束蝕刻適用於多種材料，包括金屬、半導體、聚合物和陶瓷。
表面清潔度：可從表面去除氧化層或其他污染物。
離子束蝕刻的特殊形式是反應離子束蝕刻 (RIBE) 和化學輔助離子束蝕刻 (CAIBE)，其中除了惰性氣體外還使用反應氣體，例如，以增加選擇性、影響溝槽角度或提高蝕刻速率。

-離子束修整與離子束成形：
面向下一代應用的精確表面改性
離子束修整和離子束成形是先進的高真空技術，用於光學、微電子和奈米技術等各領域的精密表面改質和校正

與傳統的機械拋光方法不同，IBT 和 IBF 製程均無需物理接觸即可進行操作。聚焦的寬正電離子束，例如氬氣在基材表面移動。離子與基質原子的碰撞引發“碰撞級聯”，導致單一粒子從表面脫落。去除的量由處理持續時間控制。離子束在一個點停留的時間越長，去除的材料就越多。由於這兩種形式都是物理過程，因此可以處理各種各樣的材料。

離子束修整是離子束修整的一種特殊形式，用於光學基片的拋光誤差校正。它也通常被稱為離子束拋光或離子束精加工，因為它通常是一系列加工步驟中的最後一步。

離子束修整與離子束整形的優點：
高精度：極高面形精度加工，單奈米級圖形修正。
非接觸式過程：因此，離子束修整不會對周圍區域引入機械應力或損壞，從而提高了設備可靠性。
透過額外使用反應氣體（反應離子束修整，RIBT）實現高選擇性，使其成為複雜設備結構的理想選擇。