批次式濕式製程設備

產品型號：WS-150/200/300 ; WSE-200/300

批次式槽式浸入設備，提供極高量能與效率單位產出(High WPH)
製程應用範圍廣泛，洗淨/蝕刻/有機物去除/微粒子去除/金屬離子去除/化學鍍膜…等等
晶圓適用範圍可自5"~12"，同時亦可支援客戶端矩形或異形(非圓形)產品使用。
採用模組式結構，充分滿足高度客製化需求。
設計符合SEMI基準架構