應用案例：

1. 評估晶片處理前後的差異(SiO2, GaAs, SiGe等)

2. 確定生物醫學設備的處理效果(例如電漿處理)，如隱形眼鏡、導管和塗層支架

3. 檢查表面粗糙度對附著力的影響

4. 評估圖案晶圓的溝槽形狀與清潔度

分析項目:

1. 鍍膜分析: 粗糙度分析、膜厚分析、孔洞大小分析

2. 奈米材料分析: 粒徑分析、分散性分析

3. 可將表面結構轉換成3D 影像，更能了快速解材料結構形貌。

4. 材料表面彈性分佈、摩擦力分佈、電荷分佈、磁區分佈分析等。

實際測試結果 

石墨烯(Graphene)與石墨台階

運作原理:

探針是由一個針尖附在一支橫桿前端所組成，探針尖端與樣品表面接觸時，由於橫桿彈性係數和原子間的作用力相當，因此探針尖端的原子與樣品表面原子的作用力便會使橫桿在垂直力方向移動，作用力來源包括探針和表面的凡得瓦力（Van der Waals force）與探針和表面的外層電子之間的庫倫排斥力。

所以樣品的表面高低起伏造成橫桿作上下偏移。而具有三軸位移能力的壓電材料掃描器（piezoelectric scanner）使樣品能在選定的區域範圍做來回掃瞄，偵測橫桿偏移量，系統的回饋電路與壓電材料掃描器在高度軸上距離微調功能結合，藉由調整探針與樣品距離，以維持掃描過程中固定的原子，所以當AFM掃描一個區域，便把垂直微調距離，以二維內函數儲存起來，形成所謂掃描區域的原子力圖像，這通常對應於掃描區域表面高低起伏的影像，也稱高度影像。

技術規格

​標準工作模式：Contact mode(接觸模式)，Tapping mode(輕敲/半接觸模式)

選配模式：LFM mode 摩擦/側向力，Phase mode 振幅/相位，MFM mode 磁力和 EFM mode 靜電力分布量測

配件選擇 : 液態模組、控溫模組、通氣氛模組

樣品尺寸：Φ≤90mm，H≤20mm

掃描範圍：XY至20um，Z至2um（另可選配或加購 XY至10um、50um或100um，Z至1um、5um或10um 之掃描器）

掃描解析度：XY至0.2nm，Z至0.05nm

樣品移動範圍：0〜13mm

光學倍率4X，光學解析度2.5um

掃描速度: 0.6Hz〜4.34Hz，掃描角度0〜360°

掃描控制：XY使用18位元D / A，Z使用16位元D / A

附高效能懸吊防震系統

附防潮、隔音箱體