PLASUS等離子製程監控系統

 

产品型号:EMICON MC/SA

 

厂商名称:歐特威科技股份有限公司

产品分类:相關設備/材料/技術

摊位号码:

 

 

产品特色

 

新一代的PEM (EMICON: EMISSION CONTROLLER) 不再使用頻寬不夠精密的窄通濾光器,改用線性的電荷耦合器件CCD,大幅提升光譜的解析度(resolution),不但譜線的位置準確,也因為光譜的解析度提升,把主要用來監控的原子譜線與旁邊夾雜的其他雜訊可以輕易地分離,讓控制的範圍加大且大幅改善控制的精度。這十年在分光儀的性能上有長足的進步,不僅光譜的解析度越來越好,也改善CCD的感光度,這些進步的優點,也替新一代的EMICON打開更多應用的市場。雖然新一代的EMICON在價格上較舊型的PEM貴了許多,但不可抹滅的,新一代的EMICON提供更多更精准的性能讓生產與研發有更好的信賴度與發展空間。長期使用的成本估算卻是遠較舊型要節省不少,最重要的是能夠讓生產線穩定,增加產能也增加營收。
現今,熱門的應用如:大氣電漿、大樓帷幕玻璃、平面顯示器的生產、觸控式螢幕生產、微機電、太陽能電池、半導體、裝飾鍍膜、超硬膜與光學鍍膜都必須搭載新一代的EMICON,來保障生產的穩定與信賴。
以下是新一代EMICON在電漿製程中不可或缺的幾項重要特徵:
1. 在過渡區域(hysteresis region)能快速有效地穩定在設定點
2. 可大幅提高鍍膜速率(deposition rate)
3. 可同步執行線上的品質管制(online QC)
對於電漿製程系統(或設備)商而言,新一代的EMICON不但能夠提升電漿製程研發的能力,更可以建立自我的電漿製程資料庫,大幅縮短在用戶端裝機驗收的時間,也能夠提供客戶快速的檢修服務。特別是濺射的連續生產線(inline sputter coater)與批量型的生產機台(batch type),十分適用。除了電漿製程的研發,同時也兼具電漿製程系統(或設備)的除錯功能,讓設備商有能力自我改善設備的設計,讓性能與穩定性提升。

 

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